一種半導(dǎo)體外延片生長設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110408846.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112981526A | 公開(公告)日 | 2021-06-18 |
申請公布號 | CN112981526A | 申請公布日 | 2021-06-18 |
分類號 | C30B25/08;C30B29/06 | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 鄭國 | 申請(專利權(quán))人 | 上海衍梓智能科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海國瓴律師事務(wù)所 | 代理人 | 傅耀 |
地址 | 200240 上海市閔行區(qū)劍川路951號零號灣2號樓506 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體外延片生長設(shè)備,包括基座、射頻電磁線圈、鐘罩、側(cè)隔板條、頂盤和墊片。其中,基座有三層硅片位,射頻電磁線圈包括12環(huán)銅線圈,頂盤直徑為5cm?50cm,墊片高度為2cm?9cm,射頻電磁線圈位于鐘罩外部并環(huán)繞基座,墊片連接基座和所述頂盤。其中本發(fā)明的有益效果是:原有的外延片生長設(shè)備僅能在基座上放兩層硅片位,本設(shè)備可以設(shè)置三層硅片位,提高了50%的產(chǎn)能;且實現(xiàn)外延層厚度均勻度<3%,電阻率均勻度<4%,爐內(nèi)均勻度<5%,良率達(dá)到88%以上的生產(chǎn)要求。 |
