一種硅片用濕法腐蝕裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120354907.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214672518U 公開（公告）日 2021-11-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN214672518U 申請(qǐng)公布日 2021-11-09
分類號(hào) H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 繆新海;錢少波;王友偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 愛特微（張家港）半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王巍巍
地址 215600江蘇省蘇州市張家港經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)新豐東路3號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種硅片用濕法腐蝕裝置，硅片由優(yōu)弧段和直線段組成，所述裝置包括支架和殼體，殼體內(nèi)設(shè)有腐蝕藥液，所述殼體上設(shè)有腐蝕藥液循環(huán)組件，所述支架浸沒于腐蝕藥液內(nèi)，所述支架內(nèi)沿長(zhǎng)度方向間隔設(shè)有若干與硅片配合的插槽，所述硅片豎直設(shè)于所述插槽內(nèi)，所述支架下方設(shè)有用于帶動(dòng)硅片在限位槽內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸截面為腰圓形，所述轉(zhuǎn)軸兩弧面上均設(shè)有與硅片上的角配合的凹槽，所述凹槽設(shè)于所述轉(zhuǎn)軸上弧面和平面的交界處，兩所述凹槽沿所述轉(zhuǎn)軸軸線中心對(duì)稱。本實(shí)用新型提供的一種硅片用濕法腐蝕裝置，采用轉(zhuǎn)軸上設(shè)置與硅片角配合的凹槽，改造簡(jiǎn)單，改造成本低，可以有效解決6英寸硅片在濕法槽轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)的打滑現(xiàn)象，保證腐蝕均勻性。