一種熒光量子點(diǎn)的優(yōu)化處理方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811340801.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109609114B 公開（公告）日 2022-03-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN109609114B 申請(qǐng)公布日 2022-03-01
分類號(hào) C09K11/02（2006.01）ICN 101775112 A,2010.07.14;CN 102690658 A,2012.09.26;CN 104927866 A,2015.09.23;CN 101724402 A,2010.06.09;CN 107982549 A,2018.05.04;CN 102961753 A,2013.03.13;CN 105754594 A,2016.07.13 Jian Cao et al.,.“Fabrication of P（NIPAAm-co-AAm） coated optical-magnetic quantum dots/silica core-shell nanocomposites for temperature triggereddrug release, bioimaging and in vivo tumor inhibition.《Journal of Materials Science: Materials in Medicine》.2018,（第29期）,第169-1至169-13頁(yè).;Nathalie Travert-Branger et al.，.In Situ Electron-Beam Polymerization Stabilized Quantum Dot Micelles.《Langmuir》.2011,第27卷（第8期）,第4358-4361頁(yè).;蔡杰等，.“載有量子點(diǎn)的介孔二氧化硅微球的制備與性能研究”.《化學(xué)學(xué)報(bào)》.2008,第66卷（第8期）,第923-929頁(yè). 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 盧睿;邊盾;楊磊;劉瑩 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 天津市中環(huán)量子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 唐致明
地址 300380天津市西青區(qū)西青學(xué)府工業(yè)區(qū)學(xué)府西路1號(hào)東區(qū)D19號(hào)廠房A1-2
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種熒光量子點(diǎn)的優(yōu)化處理方法，包括以下步驟：（1）制備熒光量子點(diǎn)包覆復(fù)合材料，所述熒光量子點(diǎn)包覆復(fù)合材料包括熒光量子點(diǎn)和包覆在所述熒光量子點(diǎn)上的阻擋層；（2）取熒光量子點(diǎn)包覆材料，加入硅烷偶聯(lián)劑二，加熱攪拌，所述硅烷偶聯(lián)劑二含有官能團(tuán)碳碳雙鍵、環(huán)氧基、丙烯酸基、氨基甲酸酯基中的任一種；（3）在步驟（2）的產(chǎn)物表面制備聚合物層；（4）對(duì)步驟（3）的產(chǎn)物進(jìn)行輻照處理。利用本發(fā)明的方法優(yōu)化處理后的熒光量子點(diǎn)能夠保持較好的量子產(chǎn)率，提高了材料的化學(xué)穩(wěn)定性和使用壽命。