磁控濺射鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)及其生產(chǎn)工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201110451479.7 申請日 -
公開（公告）號 CN102517553B 公開（公告）日 2013-09-11
申請公布號 CN102517553B 申請公布日 2013-09-11
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 許生;張忠義;梁銳生 申請（專利權(quán)）人 深圳豪威科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳匯智容達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 深圳豪威真空光電子股份有限公司;深圳豪威科技集團(tuán)股份有限公司
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)科技園北區(qū)朗山二號路豪威大廈三樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)系統(tǒng)和工藝，該系統(tǒng)包括進(jìn)出片室、過渡室、第一旋轉(zhuǎn)室、兩個工作站，進(jìn)出片室、過渡室、第一旋轉(zhuǎn)室依序銜接，兩個工作站分別銜接至第一旋轉(zhuǎn)室，一個工作站包括第一鍍膜室和第二旋轉(zhuǎn)室，第一鍍膜室的兩端分別連接至第一、第二旋轉(zhuǎn)室，另一工作站包括鍍膜單元和第三旋轉(zhuǎn)室，鍍膜單元的兩端分別連接至第一、第三旋轉(zhuǎn)室，鍍膜單元包括兩個串聯(lián)的第二鍍膜室。兩個工作站分別實(shí)現(xiàn)雙層或四層鍍膜，通過旋轉(zhuǎn)室調(diào)度，長短結(jié)合，適于多層減反射玻璃，生產(chǎn)效率和產(chǎn)能高，滿足如功能玻璃的多層鍍膜的需求。實(shí)現(xiàn)每個單層無干擾的獨(dú)立濺射且其厚度可測可控，通過兩工作站的合理調(diào)度，可進(jìn)行任意層數(shù)的組合，能滿足產(chǎn)品不斷升級的要求。