制備AR膜的生產(chǎn)線

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200710073630.1 申請日 -
公開（公告）號 CN100594256C 公開（公告）日 2010-03-17
申請公布號 CN100594256C 申請公布日 2010-03-17
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 許生;徐升東;高文波;譚曉華;曹志剛;郭祖華;謝建軍 申請（專利權(quán)）人 深圳豪威科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣東國暉律師事務(wù)所 代理人 深圳豪威真空光電子股份有限公司;深圳豪威科技集團(tuán)股份有限公司;豪威星科薄膜視窗（深圳）有限公司
地址 518000廣東省深圳市南山區(qū)高新技術(shù)工業(yè)村北區(qū)2號路豪威大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種制備AR膜的生產(chǎn)線，設(shè)有進(jìn)出片真空室、過渡真空室、高真空室、鍍膜真空室、折返前過渡真空室、折返真空室和設(shè)置在真空室內(nèi)的基片架進(jìn)、出片傳送裝置，其中在進(jìn)出片真空室有進(jìn)出片旋轉(zhuǎn)門閥，在進(jìn)出片真空室與過渡真空室之間、高真空室與鍍膜室之間分別有高真空插板門閥，在各真空室的法蘭上分別開有窄型法蘭口；在所有鍍膜真空室的進(jìn)片傳送裝置與出片傳送裝置之間有帶抽氣口的防濺射隔板；在鍍膜真空室上有兩套柱狀磁控濺射源；高真空室內(nèi)有低溫氣體吸附冷板；在折返前過渡真空室有膜層質(zhì)量在線檢測儀器；進(jìn)出片真空室和折返真空室分別連接有初抽真空泵組；高真空室、鍍膜真空室、過渡真空室、折返真空室分別配置有分子泵。