一種低碳烯烴氫甲酰化裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120415949.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN215428952U | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-01-07 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN215428952U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-07 |
分類號(hào) | B01J19/00(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 孫清;趙陸海波;唐志永 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海睿碳能源科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海匯齊專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 童強(qiáng) |
地址 | 200000上海市松江區(qū)鼎源路300號(hào)11幢503室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及烯烴氫甲?;夹g(shù)領(lǐng)域,具體為一種低碳烯烴氫甲?;b置,所述裝置包括:反應(yīng)釜、導(dǎo)流筒和多級(jí)氣體分布機(jī)構(gòu);所述導(dǎo)流筒設(shè)置在所述反應(yīng)釜內(nèi),且所述反應(yīng)釜內(nèi)壁與所述導(dǎo)流筒外壁之間形成反應(yīng)空間;所述多級(jí)氣體分布機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述反應(yīng)釜內(nèi),且位于所述導(dǎo)流筒的正下方,所述多級(jí)氣體分布機(jī)構(gòu)包括:一級(jí)分布組件、二級(jí)分布組件和三級(jí)分布組件。該低碳烯烴氫甲?;b置,通過(guò)導(dǎo)流筒下方設(shè)置的多級(jí)氣體分布機(jī)構(gòu),使得氣相原料與液相原料在反應(yīng)空間內(nèi)接觸更加充分,并延長(zhǎng)其在反應(yīng)空間內(nèi)停留時(shí)間,使反應(yīng)徹底,提高反應(yīng)效率和原料利用率,便于使用。 |
