光電元件氦質(zhì)譜檢漏方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911056473.2 申請日 -
公開（公告）號 CN110631774B 公開（公告）日 2021-02-26
申請公布號 CN110631774B 申請公布日 2021-02-26
分類號 G01M3/20(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 謝少華;陳開帆;胡靖;劉貽遠;黃黎明 申請（專利權(quán)）人 武漢東飛凌科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周偉鋒
地址 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)流芳園南路9號光谷電子工業(yè)園3號廠房2樓2-201室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光電元件氦質(zhì)譜檢漏方法，包括以下步驟：S01、將盛載有待檢光電元件的第一料盤放入第一真空容器內(nèi)；S02、向第一真空容器內(nèi)注入氦氣，并進行密封保壓；S03、從第一真空容器內(nèi)取出第一料盤；S04、將待檢光電元件整體轉(zhuǎn)移至第二料盤上；S05、將第二料盤放入第二真空容器內(nèi)；S06、對第二真空容器抽真空，并利用氦質(zhì)譜檢漏儀對第二真空容器內(nèi)的氣體進行檢測分析。本發(fā)明采用了第二料盤，通過第二料盤將第一料盤上的待檢光電元件一次性地轉(zhuǎn)移，并且盛載待檢光電元件放入第二真空容器進行氦質(zhì)譜檢漏，從而有效地解決了氦質(zhì)譜檢漏時光電元件需要零散地放入檢漏罐的技術(shù)問題，確保了氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏的準確性，提高了光電元件的檢漏效率。??