一種去除刻蝕后基片表面光刻膠的方法及實施裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710020499.6 申請日 -
公開（公告）號 CN106683983B 公開（公告）日 2019-07-02
申請公布號 CN106683983B 申請公布日 2019-07-02
分類號 H01L21/02（2006.01）I; H01L21/027（2006.01）I; H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 梁萬國; 李廣偉; 張新漢; 陳懷熹; 繆龍; 馮新凱; 鄒小林 申請（專利權）人 福建中科晶創(chuàng)光電科技有限公司
代理機構 福州科揚專利事務所 代理人 羅立君
地址 350108 福建省福州市閩侯縣上街鎮(zhèn)科技東路中科院海西研究院(中國科學院福建物質結構研究所)3號樓726室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種去除刻蝕后基片表面光刻膠的方法及實施裝置，該方法包括以下依序進行的步驟：步驟一：采用等離子灰化工藝去除刻蝕后基片表面上殘余的光刻膠；步驟二：使用清潔膠涂覆在步驟一中的灰化后的基片的表面；步驟三：待基片表面的清潔膠風干固化后，將基片表面的清潔膠撕除。該方法及實施裝置既能達到清洗的目的，又達到操作簡便易行、后續(xù)工藝簡單的目的。