紅外光學材料均勻性測試的試樣面形誤差的控制方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811219047.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109406107B | 公開(公告)日 | 2020-02-14 |
申請公布號 | CN109406107B | 申請公布日 | 2020-02-14 |
分類號 | G01M11/02 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 麥綠波 | 申請(專利權)人 | 中國兵器工業(yè)標準化研究所 |
代理機構 | 中國兵器工業(yè)集團公司專利中心 | 代理人 | 王雪芬 |
地址 | 100089 北京市海淀區(qū)車道溝10號院 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及紅外光學材料均勻性測試的試樣面形誤差的控制方法,涉及紅外光學材料均勻性測試技術領域。本發(fā)明通過建立紅外光學材料均勻性測試試樣面形誤差與測試原理和測試精度要求的計算關系,將紅外測試波段的試樣面形誤差的波前波差影響轉換為可見光條件下加工和檢驗的試樣面形誤差關系,并通過建立相關的算法公式進行數值計算,創(chuàng)建了紅外光學材料短波、中波、長波波段均勻性測試精度保證的試樣面形誤差控制的數值表格,并進一步計算給出了紅外光學材料短波、中波、長波波段均勻性測試精度保證的試樣面形誤差控制的用例表。本發(fā)明可為紅外短波波段、中波波段和長波波段的光學材料均勻性測試精度保證提供試樣面形誤差控制的具體數值。 |
