無氰化學鍍金鍍液及無氰化學鍍金方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201010227797.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN101892473B | 公開(公告)日 | 2012-09-05 |
申請公布號 | CN101892473B | 申請公布日 | 2012-09-05 |
分類號 | C23C18/44(2006.01)I;C23C18/32(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 梁繼榮;董振華 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市榮偉業(yè)電子有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)南聯(lián)簡二村下龍?zhí)?5號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種無氰化學鍍金鍍液,主要是由如下濃度比的各成份構(gòu)成的:蘋果酸7~20g/L,EDTA2Na5~18g/L,乳酸12~35g/L,氨水20~45g/L,防老化劑1~3g/L,加速劑0.1~0.5g/L,穩(wěn)定劑0.1~0.5g/L,檸檬酸金鉀1~4g/L,鍍液的pH值為5.0~5.2。采該鍍液用于鍍金時,溫度為89-93℃,時間為7~30min。本發(fā)明采用新的配方比例,并以無氰鹽類作為穩(wěn)定劑,實現(xiàn)了電路板等制品的無氰化鍍金工藝,由于不使用氰鹽類物質(zhì),為鍍金工藝提供了一種新型的無公害、成本低的途徑,本發(fā)明的推廣應(yīng)用具有極好的經(jīng)濟效益和社會效益。 |
