一種復配無氰鍍金液及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610348948.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105937028A | 公開(公告)日 | 2016-09-14 |
申請公布號 | CN105937028A | 申請公布日 | 2016-09-14 |
分類號 | C23C18/44(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 丁啟恒;呂澤滿;郝志峰;陳世榮;余堅 | 申請(專利權)人 | 深圳市榮偉業(yè)電子有限公司 |
代理機構 | 東莞市華南專利商標事務所有限公司 | 代理人 | 深圳市榮偉業(yè)電子有限公司;廣東工業(yè)大學 |
地址 | 518116 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)龍山二路四號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及輕工、化工材料的技術領域,特別是涉及一種復配無氰鍍金液及其制備方法,該復配無氰鍍金液,其特征在于:是由無氰金鹽、軟堿類配位劑、非軟堿類配位劑、還原劑、雜質屏蔽劑、添加劑、pH緩沖劑和水組成;其中,非氰金鹽的含量為0.8~6g/L,軟堿類配位劑的含量為8~50g/L,非軟堿類配位劑的含量為3~20g/L,還原劑的含量為1~10g/L,雜質屏蔽劑的含量為5~20g/L,添加劑的含量為1~10g/L,pH緩沖劑的含量為10~40g/L。該復配無氰鍍金液對鎳層的腐蝕很小,且具有穩(wěn)定性好、鍍敷效果佳、金鹽利用率高的優(yōu)點。也具有制備方法簡單和生產成本低的特點。 |
