一種晶圓清理裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202123285659.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN216539937U | 公開(公告)日 | 2022-05-17 |
申請公布號 | CN216539937U | 申請公布日 | 2022-05-17 |
分類號 | B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;B08B5/04(2006.01)I;B01D46/02(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 劉琨 | 申請(專利權(quán))人 | 南京偉測半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海和華啟核知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 211806江蘇省南京市浦口區(qū)浦口經(jīng)濟開發(fā)區(qū)雙峰路69號C-93 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型揭示了一種晶圓清理裝置,包括操作臺,所述操作臺上通過第一安裝架安裝有至少兩個清理頭,所述清理頭上連接有通氣管,所述通氣管遠離所述清理頭一端通過腳踏壓力閥連接有氣體管道。本實用新型在清理過程中可雙手控制晶圓移動,保持晶圓清理過程的穩(wěn)定性。 |
