晶圓烘干槽、晶圓烘干裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120768649.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214665674U 公開(kāi)（公告）日 2021-11-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN214665674U 申請(qǐng)公布日 2021-11-09
分類號(hào) F26B9/06（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I;F26B21/14（2006.01）I 分類 干燥;
發(fā)明人 左國(guó)軍;陳雷;成旭;李雄朋;申斌;談麗文;邱瑞;饒相松 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 創(chuàng)微微電子（常州）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京友聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 尚志峰;汪海屏
地址 213133江蘇省常州市新北區(qū)機(jī)電工業(yè)園寶塔山路9號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及晶圓烘干設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種晶圓烘干槽、晶圓烘干裝置，用于對(duì)晶圓進(jìn)行烘干。晶圓烘干槽包括：槽體；管道系統(tǒng)，管道系統(tǒng)用于朝向槽體內(nèi)的不同方向通入氣體，以在槽體內(nèi)交匯形成混合氣流場(chǎng)。本申請(qǐng)將多個(gè)晶圓置于槽體內(nèi)，通過(guò)管道系統(tǒng)從多個(gè)方向朝向槽體內(nèi)通入氣體，可以在槽體內(nèi)形成混合氣流場(chǎng)，混合氣流場(chǎng)是流動(dòng)的，因此，在槽體內(nèi)形成的烘干區(qū)域能夠覆蓋整個(gè)晶圓尺寸范圍，以保證晶圓表面的潔凈度。