光罩雜質去除設備和光罩雜質去除方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110126225.1 申請日 -
公開（公告）號 CN112934859A 公開（公告）日 2021-06-11
申請公布號 CN112934859A 申請公布日 2021-06-11
分類號 B08B7/00 分類 清潔;
發(fā)明人 韓露露;賀遵火;吳仕偉;謝發(fā)政 申請（專利權）人 泉意光罩光電科技（濟南）有限公司
代理機構 北京超凡宏宇專利代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 劉曾
地址 250000 山東省濟南市高新區(qū)機場路7617號411-2-9室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的實施例提供了一種光罩雜質去除設備和光罩雜質去除方法，涉及半導體技術領域，光罩雜質去除設備包括黏膠棒、升降機構和承載盤，承載盤用于放置光罩，黏膠棒與升降機構傳動連接，并與承載盤相對設置，升降機構設置在承載盤的一側，用于帶動黏膠棒靠近或者遠離光罩，黏膠棒用于粘附光罩表面的雜質。相較于現有技術，本發(fā)明提供了一種新型的雜質去除方式，能夠有效粘走雜質微粒，避免了由于靜電吸附導致的雜質去除不徹底的情況，同時，無需額外設置復雜的吹掃機構和滴液輔助結構，操作過程簡單，簡化了雜質去除流程。