光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110126225.1 申請日 -
公開（公告）號 CN112934859A 公開（公告）日 2021-06-11
申請公布號 CN112934859A 申請公布日 2021-06-11
分類號 B08B7/00 分類 清潔;
發(fā)明人 韓露露;賀遵火;吳仕偉;謝發(fā)政 申請（專利權(quán)）人 泉意光罩光電科技（濟(jì)南）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 劉曾
地址 250000 山東省濟(jì)南市高新區(qū)機(jī)場路7617號411-2-9室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，光罩雜質(zhì)去除設(shè)備包括黏膠棒、升降機(jī)構(gòu)和承載盤，承載盤用于放置光罩，黏膠棒與升降機(jī)構(gòu)傳動(dòng)連接，并與承載盤相對設(shè)置，升降機(jī)構(gòu)設(shè)置在承載盤的一側(cè)，用于帶動(dòng)黏膠棒靠近或者遠(yuǎn)離光罩，黏膠棒用于粘附光罩表面的雜質(zhì)。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明提供了一種新型的雜質(zhì)去除方式，能夠有效粘走雜質(zhì)微粒，避免了由于靜電吸附導(dǎo)致的雜質(zhì)去除不徹底的情況，同時(shí)，無需額外設(shè)置復(fù)雜的吹掃機(jī)構(gòu)和滴液輔助結(jié)構(gòu)，操作過程簡單，簡化了雜質(zhì)去除流程。