光罩缺陷修復(fù)方法、光罩制備方法和光罩

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011516646.7 申請日 -
公開（公告）號 CN112526820A 公開（公告）日 2021-03-19
申請公布號 CN112526820A 申請公布日 2021-03-19
分類號 G03F1/72 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 高翌;賀遵火;張哲瑋;朱佳楠 申請（專利權(quán)）人 泉意光罩光電科技（濟(jì)南）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 劉曾
地址 250000 山東省濟(jì)南市高新區(qū)機(jī)場路7617號411-2-9室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種光罩缺陷修復(fù)方法、光罩制備方法和光罩，涉及半導(dǎo)體光刻工藝技術(shù)領(lǐng)域，采用該光罩缺陷修復(fù)方法，在沉積修復(fù)材料之前，對遮光層的透光缺陷區(qū)域內(nèi)的光罩襯底進(jìn)行表面粗糙化處理，以使透光缺陷區(qū)域內(nèi)的光罩襯底的表面粗糙化，利用增加沉積表面粗糙度的形式，使得沉積物與沉積表面之間的接觸面增大，增加沉積物的附著性，使得沉積物不易因清洗而剝落，降低大面積透光缺陷的沉積修補(bǔ)的失敗率。