一種光罩工藝誤差修正方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011276292.3 申請日 -
公開（公告）號 CN112180678A 公開（公告）日 2021-01-05
申請公布號 CN112180678A 申請公布日 2021-01-05
分類號 G03F1/72;G03F7/20;H01L21/027 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張家瑋;蔡奇澄;黃鉦為;周育潤 申請（專利權(quán)）人 泉意光罩光電科技（濟南）有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 張洋
地址 250000 山東省濟南市高新區(qū)機場路7617號411-2-9室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光罩工藝誤差修正方法，涉及元器件制造技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：根據(jù)預(yù)設(shè)曝光強度對器件進行曝光處理；獲取曝光處理后的器件表面光罩圖案的各區(qū)域的多個線寬，區(qū)域根據(jù)待形成圖案的疏密程度劃分有疏區(qū)和至少一個密區(qū)；根據(jù)密區(qū)的線寬與疏區(qū)的線寬的差值，以及每個密區(qū)所在的位置，計算密區(qū)的預(yù)設(shè)曝光強度的調(diào)整量。上述方法根據(jù)曝光處理后光罩圖案的變化數(shù)據(jù)，對曝光光線的反射量進行預(yù)估，并對預(yù)設(shè)曝光強度進行調(diào)整，動態(tài)地修正光罩工藝中的參數(shù)，使得到的光罩圖案的線寬在誤差允許的范圍內(nèi)穩(wěn)定波動，降低了光罩生產(chǎn)的成本，也使光罩的品質(zhì)維持在較高的水平內(nèi)。