相位移掩模版、掩模版修補方法及設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110858794.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113467180A 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN113467180A 申請公布日 2021-10-01
分類號 G03F1/26;G03F1/72 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張哲瑋;高翌;朱佳楠 申請（專利權(quán)）人 泉意光罩光電科技（濟南）有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 董艷芳
地址 250000 山東省濟南市高新區(qū)經(jīng)十路7000號漢峪金融商務(wù)中心A4-（4）辦公樓九層904室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┮环N相位移掩模版、掩模版修補方法及設(shè)備，涉及半導(dǎo)體制程技術(shù)領(lǐng)域。本申請在獲取到對應(yīng)掩模圖案區(qū)域內(nèi)存在遮光材料殘留物的目標(biāo)相移掩模版后，會針對該目標(biāo)相移掩模版的掩模圖案區(qū)域內(nèi)的遮光材料殘留物進行局部去除，以將遮光材料殘留物構(gòu)建為目標(biāo)光柵結(jié)構(gòu)，此時對目標(biāo)相移掩模版中與遮光材料殘留物投影位置重疊的第一相移區(qū)域來說，該第一相移區(qū)域的靠近目標(biāo)光柵結(jié)構(gòu)的區(qū)域表面將相對于目標(biāo)光柵結(jié)構(gòu)部分暴露，使目標(biāo)相移掩模版中的第一相移區(qū)域能夠恢復(fù)相位移效應(yīng)及相消干涉功能，從而快速且有效地實現(xiàn)對具有遮光材料殘留物的相移掩模版的修補作業(yè)，確保修補后的相移掩模版能夠達到預(yù)期曝光效果。