相位移掩模版、掩模版修補(bǔ)方法及設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110858794.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113467180A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113467180A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-01 |
| 分類(lèi)號(hào) | G03F1/26;G03F1/72 | 分類(lèi) | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 張哲瑋;高翌;朱佳楠 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 泉意光罩光電科技（濟(jì)南）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 董艷芳 |
| 地址 | 250000 山東省濟(jì)南市高新區(qū)經(jīng)十路7000號(hào)漢峪金融商務(wù)中心A4-（4）辦公樓九層904室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N相位移掩模版、掩模版修補(bǔ)方法及設(shè)備，涉及半導(dǎo)體制程技術(shù)領(lǐng)域。本申請(qǐng)?jiān)讷@取到對(duì)應(yīng)掩模圖案區(qū)域內(nèi)存在遮光材料殘留物的目標(biāo)相移掩模版后，會(huì)針對(duì)該目標(biāo)相移掩模版的掩模圖案區(qū)域內(nèi)的遮光材料殘留物進(jìn)行局部去除，以將遮光材料殘留物構(gòu)建為目標(biāo)光柵結(jié)構(gòu)，此時(shí)對(duì)目標(biāo)相移掩模版中與遮光材料殘留物投影位置重疊的第一相移區(qū)域來(lái)說(shuō)，該第一相移區(qū)域的靠近目標(biāo)光柵結(jié)構(gòu)的區(qū)域表面將相對(duì)于目標(biāo)光柵結(jié)構(gòu)部分暴露，使目標(biāo)相移掩模版中的第一相移區(qū)域能夠恢復(fù)相位移效應(yīng)及相消干涉功能，從而快速且有效地實(shí)現(xiàn)對(duì)具有遮光材料殘留物的相移掩模版的修補(bǔ)作業(yè)，確保修補(bǔ)后的相移掩模版能夠達(dá)到預(yù)期曝光效果。 |
