光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110104814.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN112934850A 公開(kāi)（公告）日 2021-06-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN112934850A 申請(qǐng)公布日 2021-06-11
分類號(hào) B08B5/04;B08B13/00 分類 清潔;
發(fā)明人 王嘉才;游聰敏;孫天賜;劉兆亮 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 泉意光罩光電科技（濟(jì)南）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 劉曾
地址 250000 山東省濟(jì)南市高新區(qū)機(jī)場(chǎng)路7617號(hào)411-2-9室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種光罩雜質(zhì)去除設(shè)備和光罩雜質(zhì)去除方法，涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，該光罩雜質(zhì)去除設(shè)備，包括承載裝置和真空吸附槍，承載裝置用于承載光罩，真空吸附槍與承載裝置連接，用于吸附光罩表面的雜質(zhì)。本發(fā)明將光罩放置在承載裝置上，然后通過(guò)真空吸附槍吸附光罩表面的雜質(zhì)，從而利用吸附的方式去除光罩表面的雜質(zhì)，而吸附過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)微粒滾動(dòng)現(xiàn)象，避免了刮傷光罩的表面，同時(shí)，由于吸附的特性，使得雜質(zhì)不會(huì)因?yàn)闅饬飨菰诠庹謨?nèi)，且能夠?qū)ο萑牍庹謨?nèi)的雜質(zhì)進(jìn)行移除，能夠有效去除光罩表面的雜質(zhì)，保證了光罩的質(zhì)量。