一種反應(yīng)腔裝置及其工作方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011496224.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112447488A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112447488A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-05 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 邱勇;孫曉東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海訊穎電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號(hào)C樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種反應(yīng)腔裝置及其工作方法，反應(yīng)腔裝置包括：反應(yīng)腔主體；位于所述反應(yīng)腔主體內(nèi)的晶圓承載平臺(tái)，所述晶圓承載平臺(tái)的表面適于放置晶圓；環(huán)繞所述晶圓承載平臺(tái)的緩沖環(huán)，所述緩沖環(huán)適于延長(zhǎng)反應(yīng)源粒子沿著晶圓表面向外橫向運(yùn)動(dòng)的路徑。所述反應(yīng)腔裝置能夠調(diào)節(jié)晶圓表面的反應(yīng)速率的均勻性。?? |
