一種蒸鍍裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010531723.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111663103A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-09-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111663103A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-15 |
| 分類號(hào) | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 高志揚(yáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 合肥視涯顯示科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 合肥視涯顯示科技有限公司 |
| 地址 | 230012安徽省合肥市新站區(qū)合肥綜合保稅區(qū)內(nèi) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)一種蒸鍍裝置，其包括：蒸發(fā)源組件，包括蒸發(fā)源本體、第一噴嘴和第二噴嘴，第二噴嘴位于第一噴嘴的外側(cè)，第一噴嘴的第一半徑r1小于第二噴嘴的第二半徑r2；限制板，限制板的個(gè)數(shù)為兩個(gè)，兩個(gè)限制板沿蒸發(fā)源本體寬度方向分別設(shè)于蒸發(fā)源本體的兩側(cè)且面對(duì)面設(shè)置，限制板正對(duì)第一噴嘴的部位高出第一噴嘴的高度為第一高度，限制板正對(duì)第二噴嘴的部位高出第二噴嘴的高度為第二高度，第一高度小于第二高度。本發(fā)明公開(kāi)的蒸鍍結(jié)構(gòu)通過(guò)增高半徑較大的第二噴嘴正對(duì)的限制板的高度，在不改變膜層沿蒸發(fā)源本體長(zhǎng)度方向的厚度的前提下，從而使位于基板上的膜層沿限制板的寬度方向的厚度降低，即提高了膜層的整體均勻性。?? |
