一種非晶碳復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510159165.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN105441872B | 公開（公告）日 | 2018-03-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN105441872B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-03-13 |
| 分類號(hào) | C23C14/06;C23C14/35;A61L27/08;A61L27/50 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 賀鳳飛;王秀麗;李玲玲;白文琦;金攻;涂江平 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中奧匯成科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京維澳專利代理有限公司 | 代理人 | 中奧匯成科技股份有限公司 |
| 地址 | 100176 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街二十號(hào)院14號(hào)樓1單元 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種非晶碳復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用，由依次沉積在經(jīng)高能氬離子改性處理UHMWPE基體上的純碳超薄底層和非晶碳頂層構(gòu)成，高能氬離子改性以及純碳超薄底層的設(shè)計(jì)可以提高本發(fā)明非晶碳復(fù)合涂層與基體的結(jié)合力。采用閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射法，便于連續(xù)化工業(yè)生產(chǎn)。本發(fā)明的非晶碳復(fù)合涂層大幅提高了UHMWPE基體的表面硬度并具備較低的摩擦系數(shù)和優(yōu)異的耐磨性能，可以用于生物醫(yī)學(xué)中，如人工關(guān)節(jié)臼杯表面等，大大提高材料的使用壽命，具有廣闊的應(yīng)用前景。 |
