一種具有新型納米多層結(jié)構(gòu)的薄膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201611012186.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106521435B 公開(kāi)（公告）日 2019-04-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN106521435B 申請(qǐng)公布日 2019-04-09
分類(lèi)號(hào) C23C14/34;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/18;A61L27/30;A61L27/06 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 白文琦;涂江平;王秀麗;金攻;李瑞玲;李玲玲;謝躍軍 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 中奧匯成科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京維澳專(zhuān)利代理有限公司 代理人 王立民;江懷勤
地址 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)科創(chuàng)十四街20號(hào)院14號(hào)樓A座3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種具有新型納米多層結(jié)構(gòu)的薄膜及其制備方法，納米多層結(jié)構(gòu)的薄膜由依次沉積在基體上的鋯底層及鋯?氮化鋯?碳多層結(jié)構(gòu)構(gòu)成。其中，鋯底層厚度為200?300nm，可提高薄膜的承載能力及與金屬基底的結(jié)合力。鋯?氮化鋯?碳多層結(jié)構(gòu)由鋯單層、氮化鋯單層及非晶碳單層構(gòu)成，其中“氮化鋯單層?鋯單層?非晶碳單層?鋯單層”組成一個(gè)重復(fù)單元，多層結(jié)構(gòu)由若干個(gè)重復(fù)單元構(gòu)成。多層結(jié)構(gòu)中，鋯單層為密排六方結(jié)構(gòu)，氮化鋯單層為面心立方結(jié)構(gòu)。納米多層的薄膜具有高承載能力、高耐腐蝕及高耐磨的特點(diǎn)，并具有良好的生物相容性，在金屬關(guān)節(jié)領(lǐng)域具有應(yīng)用前景。