一種真空機組控制裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202120336094.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN214481653U | 公開（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申請公布號 | CN214481653U | 申請公布日 | 2021-10-22 |
| 分類號 | H05K5/02;F16F15/04 | 分類 | 其他類目不包含的電技術; |
| 發(fā)明人 | 安豐發(fā) | 申請（專利權）人 | 蘇州和創(chuàng)化學有限公司 |
| 代理機構 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 215500 江蘇省蘇州市常熟市海虞鎮(zhèn)觀潮路9號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種真空機組控制裝置，包括箱體、底座、第一過箱管和第二過箱管，所述箱體底端設有底座，所述箱體內壁頂段靠近中端處設有控制元件，所述箱體底段設有第一過箱管，所述箱體底端通過第一過箱管底部設有第二過箱管，所述第一過箱管和第二過箱管中段均設有透明蓋，所述箱體前側底端設有主觀察窗，所述第一過箱管左端設有第一進管，所述第一過箱管右端設有第一出管，所述第二過箱管左端設有第二進管，所述第二過箱管右端設有第二出管，涉及真空機組控制裝置技術領域，該種真空機組控制裝置，提升了操作人員觀察管路的便捷性，緩解了控制裝置受到設備運行的震動影響，緩解了控制裝置額外占用運行空間的問題。 |
