目標(biāo)成像方法、裝置、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202010666577.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111553839A | 公開（公告）日 | 2020-08-18 |
| 申請公布號 | CN111553839A | 申請公布日 | 2020-08-18 |
| 分類號 | G06T3/00(2006.01)I | 分類 | 計算；推算；計數(shù); |
| 發(fā)明人 | 汪遠(yuǎn);王球 | 申請（專利權(quán)）人 | 南京微納科技研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 南京微納科技研究院有限公司 |
| 地址 | 211800江蘇省南京市江北新區(qū)研創(chuàng)園團(tuán)結(jié)路99號孵鷹大廈1398室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請?zhí)峁┝艘环N目標(biāo)成像方法、裝置、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)，首先獲取待處理目標(biāo)的反射光線作為穿戴物的透明基體的入射表面的入射光線,然后利用變換光學(xué)層對入射光線進(jìn)行相位補(bǔ)償，以生成穿戴物的出射光線，出射光線用于成像待處理目標(biāo)對應(yīng)的處理目標(biāo)圖像。解決了無需整形手術(shù)便可以直接在現(xiàn)實中觀察到顏值以及形體美感提升的問題。?? |
