便于維護保養(yǎng)的磁控濺射制備ITO薄膜的系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710288617.1 申請日 -
公開（公告）號 CN107043916B 公開（公告）日 2019-08-02
申請公布號 CN107043916B 申請公布日 2019-08-02
分類號 C23C14/35（2006.01）I; C23C14/08（2006.01）I; C23C14/02（2006.01）I; C23C14/50（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 易鑒榮; 唐臻; 林荔珊 申請（專利權(quán)）人 柳州豪祥特科技有限公司
代理機構(gòu) 北京遠大卓悅知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 靳浩
地址 545616 廣西壯族自治區(qū)柳州市柳東新區(qū)官塘創(chuàng)業(yè)園研發(fā)中心2號樓511號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種便于維護保養(yǎng)的磁控濺射制備ITO薄膜的系統(tǒng)，包括：依次相連的預熱腔、沉積腔、冷卻腔、成品腔和真空泵以及控制面板。所述沉積腔的兩側(cè)壁上設(shè)置有ITO靶材和磁體，所述沉積腔的上部的開口上設(shè)置有頂蓋，所述頂蓋的下方活動連接有具有夾層的中空的輸氣板，所述輸氣板的下表面均勻開設(shè)有多個通孔，以使反應(yīng)氣體由所述夾層通入沉積腔，所述沉積腔的下表面上均勻設(shè)置有若干支柱，所述支柱可上下運動；所述成品腔內(nèi)設(shè)置有多個格柵，以將所述成品腔均勻分隔為多個隔室。其采用流水線式的制備系統(tǒng)，使得成膜效率大大提高，且成膜均勻質(zhì)量高。同時所述系統(tǒng)方便系統(tǒng)的清潔和維護，減輕了維護保養(yǎng)的工作量，提高了工作效率。