芯片堆疊結(jié)構(gòu)的連接方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111351802.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113793811B | 公開(公告)日 | 2022-02-15 |
申請公布號 | CN113793811B | 申請公布日 | 2022-02-15 |
分類號 | H01L21/50(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I;H01L25/065(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉天建;田應超;曹瑞霞;謝冬 | 申請(專利權(quán))人 | 湖北三維半導體集成創(chuàng)新中心有限責任公司 |
代理機構(gòu) | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 田婷 |
地址 | 430205湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)高新四路18號新芯生產(chǎn)線廠房及配套設(shè)施2幢O(jiān)S6號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種芯片堆疊結(jié)構(gòu)的連接方法,包括:提供一基板;將至少兩個芯片堆疊結(jié)構(gòu)固定在所述基板上,相鄰的兩個芯片堆疊結(jié)構(gòu)之間具有間隙,每個芯片堆疊結(jié)構(gòu)包括堆疊設(shè)置的多層芯片,每層芯片包括襯底、形成于所述襯底上焊盤以及覆蓋所述襯底和所述焊盤的介質(zhì)層,所述間隙暴露所述焊盤的側(cè)面;去除所述間隙側(cè)面的部分襯底和部分介質(zhì)層,使所述焊盤局部突出于所述介質(zhì)層;在所述芯片堆疊結(jié)構(gòu)和所述基板表面形成連接材料層,去除所述芯片堆疊結(jié)構(gòu)和所述基板表面的連接材料層,形成連接層,相鄰的所述焊盤通過所述連接層連接;以及,填充所述間隙,以使至少兩個芯片堆疊結(jié)構(gòu)連接在一起。解了決芯片面積越大,良率越低的問題。 |
