可調(diào)式陶瓷拋光研磨機及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910875102.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110625490A | 公開(公告)日 | 2021-06-01 |
申請公布號 | CN110625490A | 申請公布日 | 2021-06-01 |
分類號 | B24B21/06;B24B21/18;B24B21/20;B24B1/00 | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 駱陽旭;吳朝暉 | 申請(專利權(quán))人 | 東莞市國瓷新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 廈門市新華專利商標代理有限公司 | 代理人 | 彭長久;徐勛夫 |
地址 | 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)古寮一路12號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種可調(diào)式陶瓷拋光研磨機及方法,包括機臺及設(shè)置于機臺上的輸送裝置、拋光研磨裝置;該輸送裝置包括輸送帶及第一驅(qū)動單元;該拋光研磨裝置包括主動輪、從動輪、砂帶,該砂帶繞于主動輪、從動輪上;該主動輪的一側(cè)設(shè)有可調(diào)式壓緊機構(gòu),該壓緊機構(gòu)包括壓緊單元及第二驅(qū)動單元;該第二驅(qū)動單元驅(qū)動壓緊單元可選擇性地朝向砂帶的底面的內(nèi)側(cè)位移或背離砂帶的底面的內(nèi)側(cè)位移,以壓緊砂帶或釋放砂帶,以使砂帶朝向拋光研磨區(qū)域位移或背離拋光研磨區(qū)域位移;借此,其能更好地對工件的表面進行磨平,實現(xiàn)了砂帶對工件的不同的研磨程度,達到工件研磨程度可控的目的,從而使得工件的厚度可控,且能提升工件表面的粗糙度,提高工件的制作精度。 |
