一種基于離層分布規(guī)律的地表沉陷控制注漿填充系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210135701.0 申請日 -
公開（公告）號 CN114183195A 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN114183195A 申請公布日 2022-03-15
分類號 E21F15/00（2006.01）I;G06N3/08（2006.01）I;G06K9/62（2022.01）I 分類 土層或巖石的鉆進；采礦;
發(fā)明人 邱雷明;孫華;孫善金;鄭兆宗;張營;孔存紅 申請（專利權）人 山東山礦機械有限公司
代理機構 青島致嘉知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 韓艷艷
地址 272000山東省濟寧市任城區(qū)濟安橋北路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及煤礦開采技術領域，具體涉及一種基于離層分布規(guī)律的地表沉陷控制注漿填充系統(tǒng)，可實現(xiàn)：在采礦工作過程中，獲取礦井當前及其之前各工作區(qū)縱向深度下對應的各橫向工作區(qū)寬度、各離層帶分布深度、離層帶各覆巖層的巖石膨脹率和含水率、當前工作區(qū)縱向深度下對應的注漿填充總量；根據各橫向工作區(qū)寬度和各離層帶分布深度，獲取各高斯混合模型，并根據各離層帶分布深度，確定各高斯混合模型參數；將各高斯混合模型參數、離層帶的各覆巖層的巖石膨脹率和含水率，輸入到注漿填充量預測網絡中，得到下一工作區(qū)縱向深度下對應的注漿填充總量預測值，進而確定注漿速率。本發(fā)明可以實現(xiàn)注漿填充總量的準確預測，提高了離層注漿填充效果。