一種光學ZnS材料及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011457261.8 申請日 -
公開（公告）號 CN112626488A 公開（公告）日 2021-04-09
申請公布號 CN112626488A 申請公布日 2021-04-09
分類號 C23C16/30;C23C16/448;C23C16/52 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 錢纁;肖紅濤;張旭;黨參;張克宏;宮月 申請（專利權）人 中材人工晶體研究院有限公司
代理機構 北京柏杉松知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 劉繼富;王春偉
地址 100018 北京市朝陽區(qū)紅松園1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光學ZnS材料及其制備方法，其中制備方法包括：將鋅和硫分別裝入化學氣相沉積爐的第一坩堝和投料裝置；對第一坩堝、第二坩堝及沉積腔加熱，通過投料裝置向第二坩堝投放硫；向第一坩堝通入惰性載流氣，向第二坩堝通入惰性載流氣和氫氣，使含有鋅蒸氣和硫蒸氣的載流氣分別通過管道進入沉積腔沉積ZnS，沉積過程中通過投料裝置向第二坩堝定時定量補充硫，以維持硫的飽和蒸氣壓在0.8～1.8KPa范圍內。本發(fā)明制備方法不會產生H2S，因此能夠避免因H2S分解產生H離子與Zn蒸氣形成氫鋅絡合物而影響ZnS材料的透過率和發(fā)射率。