一種連續(xù)沉積金剛石薄膜的方法及其設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010380075.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111549330A | 公開（公告）日 | 2020-08-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111549330A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-18 |
| 分類號(hào) | C23C16/27(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 玄真武;李勇;張怡;何敬暉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中材人工晶體研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 北京中材人工晶體研究院有限公司;中材人工晶體研究院有限公司 |
| 地址 | 100018北京市朝陽區(qū)東壩紅松園一號(hào)人工晶體院 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種連續(xù)沉積金剛石薄膜的方法及其設(shè)備。包括預(yù)沉積室、沉積室、制品待取室及將預(yù)沉積室的基片從所述預(yù)沉積室依次傳輸至沉積室、制品待取室的基片傳輸裝置，其中，所述預(yù)沉積室、沉積室、制品待取室依次設(shè)置且依次連接，預(yù)沉積室內(nèi)充入基片沉積時(shí)所需氣氛氣體，在所述沉積室內(nèi)當(dāng)前熱絲結(jié)構(gòu)的作用下，依次對(duì)進(jìn)入所述沉積室的多批次基片進(jìn)行金剛石薄膜沉積，實(shí)現(xiàn)了在不更換熱絲結(jié)構(gòu)的前提下，多次金剛石膜的沉積，避免了現(xiàn)有技術(shù)中由于熱絲消耗和中間更換熱絲所導(dǎo)致的成本非必要提高問題，有利于金剛石薄膜的推廣。?? |
