反射式天線陣列及波束掃描方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201611081303.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106486784A 公開(kāi)（公告）日 2017-03-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN106486784A 申請(qǐng)公布日 2017-03-08
分類號(hào) H01Q15/00(2006.01)I;H01Q3/38(2006.01)I;H01Q13/02(2006.01)I;H01Q1/12(2006.01)I;H01Q19/10(2006.01)I;H01Q21/00(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 萬(wàn)向;張茜;郭鵬良;李海江 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇賽博防務(wù)技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 江蘇賽博防務(wù)技術(shù)有限公司;長(zhǎng)沙新材料產(chǎn)業(yè)研究院有限公司
地址 211111 江蘇省南京市江寧區(qū)秣周東路12號(hào)紫金(江寧)科技創(chuàng)業(yè)特別社區(qū)4號(hào)樓18層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種反射式天線陣列及波束掃描方法，其中反射式天線陣列包括可編程基板和超材料表面，所述超材料表面包括若干個(gè)有源天線單元，該有源天線單元包括超材料單元和連接在超材料單元之間的有源二極管；當(dāng)有源二極管的狀態(tài)排布不同時(shí)，超材料表面的“0”、“1”狀態(tài)分布不同；進(jìn)而將平面波反射形成所需要的輻射波束。本發(fā)明可快速設(shè)計(jì)相對(duì)應(yīng)的“0”和“1”編碼排布，通過(guò)可編程基板快速控制對(duì)應(yīng)的有源二極管，控制波束掃描角度和輻射波束。與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)相比，不需要機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)天線結(jié)構(gòu)即可實(shí)現(xiàn)需要方位角度的輻射波束，整體體積減小，增加靈活性。