體全息元件制作方法及系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201711055182.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN109752845B | 公開（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申請公布號 | CN109752845B | 申請公布日 | 2021-04-20 |
| 分類號 | G02B27/01(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 陳志東 | 申請（專利權(quán)）人 | 北京鉛筆視界科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海知錦知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 高靜;李麗 |
| 地址 | 100190北京市海淀區(qū)中關(guān)村大街18號B座9層909室64號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種體全息元件制作方法，體全息元件用于具有整體出瞳的近眼顯示裝置，包含以下步驟：提供光致折變材料層；設(shè)定遠(yuǎn)光入射光束組，遠(yuǎn)光入射光束組的各光束照射在光致折變材料層上的區(qū)域不重疊，且遠(yuǎn)光入射光束組透過光致折變材料層投射到整體出瞳的第一出瞳；設(shè)定近光入射光束組，近光入射光束組的各光束照射在光致折變材料層上的區(qū)域不重疊；對光致折變材料層進(jìn)行整體曝光，使遠(yuǎn)光入射光束組和近光入射光束組分別從光致折變材料層的兩面直接照射光致折變材料層形成干涉區(qū)域，位于干涉區(qū)域的光致折變材料層感光轉(zhuǎn)化為第一整體曝光信息層。本發(fā)明所提供的制作方法制作的體全息元件，能夠直接滿足近眼顯示的使用要求，且結(jié)構(gòu)簡單、非常輕薄。?? |
