一種單質(zhì)或多質(zhì)氣體制備單元
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710328954.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107285449B | 公開(公告)日 | 2019-07-30 |
申請公布號 | CN107285449B | 申請公布日 | 2019-07-30 |
分類號 | C02F1/68(2006.01)I; C01B21/04(2006.01)I; C25B1/04(2006.01)I | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
發(fā)明人 | 余海松; 汪杰明; 李卓益; 黃琨 | 申請(專利權(quán))人 | 玉靈華科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京天奇智新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 玉靈華科技有限公司 |
地址 | 430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷二路219號光谷新動力16棟1單元201 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種單質(zhì)或多質(zhì)氣體制備單元。包括:包括制氫裝置、制氧裝置、布朗氣體制備裝置、制氮裝置和常規(guī)氣體存貯裝置中的一種或多重組合。本發(fā)明的設(shè)備可以制備出各種標號的高濃度單質(zhì)或多質(zhì)水溶液,并可以長時間保持水溶液的濃度、單質(zhì)或多質(zhì)氣體的氣泡尺寸范圍在10nm?120nm之間,頻度最大數(shù)直徑約30nm?60nm,頻度峰直徑約20nm?70nm,頻度最小值直徑約5nm?20nm。 |
