一種高濃度單質(zhì)氣體及多質(zhì)氣體水溶液的制備裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710332895.2 申請日 -
公開（公告）號 CN107200390B 公開（公告）日 2019-12-10
申請公布號 CN107200390B 申請公布日 2019-12-10
分類號 C02F1/68（2006.01）; C02F1/461（2006.01）; C25B1/06（2006.01） 分類 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 余海松; 汪杰明; 李卓益; 黃琨 申請（專利權(quán)）人 玉靈華科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京天奇智新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 玉靈華科技有限公司
地址 430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷二路219號光谷新動力16棟1單元201
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高濃度單質(zhì)氣體及多質(zhì)氣體水溶液的制備裝置。包括：電源控制系統(tǒng)；PLC系統(tǒng)：用于控制制備裝置所有功能單元的工作；水處理單元：將水溶液進(jìn)行快速的去離子化；單質(zhì)或多質(zhì)氣體制備單元：用于制備單質(zhì)或多質(zhì)氣體；多重射流空化微反應(yīng)系統(tǒng)：用于將去離子化的水溶液和制備好的單質(zhì)或多質(zhì)氣體進(jìn)行混合，并輸出所需的高濃度水溶液。本發(fā)明的方法和設(shè)備可以制備出各種標(biāo)號的高濃度單質(zhì)或多質(zhì)水溶液，并可以長時間保持水溶液的濃度、單質(zhì)或多質(zhì)氣體的氣泡尺寸范圍在10nm?120nm之間，頻度最大數(shù)直徑約30nm?60nm，頻度峰直徑約20nm?70nm，頻度最小值直徑約5nm?20nm。