一種高濃度單質(zhì)氣體及多質(zhì)氣體水溶液的制備裝置及制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710328955.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN107188289B | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-12-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN107188289B | 申請(qǐng)公布日 | 2019-12-17 |
分類(lèi)號(hào) | C02F1/68(2006.01); B01J10/00(2006.01); C01B21/04(2006.01); C01B13/02(2006.01); C01B3/04(2006.01) | 分類(lèi) | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
發(fā)明人 | 余海松; 汪杰明; 李卓益; 黃琨 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 玉靈華科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京天奇智新知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 玉靈華科技有限公司 |
地址 | 430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)光谷二路219號(hào)光谷新動(dòng)力16棟1單元201 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種高濃度單質(zhì)氣體及多質(zhì)氣體水溶液的制備裝置及制備方法。包括:電源控制系統(tǒng);PLC系統(tǒng):用于控制制備裝置所有功能單元的工作;水處理單元:將水溶液進(jìn)行快速的去離子化;單質(zhì)或多質(zhì)氣體制備單元:用于制備單質(zhì)或多質(zhì)氣體;多重射流空化微反應(yīng)系統(tǒng):用于將去離子化的水溶液和制備好的單質(zhì)或多質(zhì)氣體進(jìn)行混合,并輸出所需的高濃度水溶液。本發(fā)明的方法和設(shè)備可以制備出各種標(biāo)號(hào)的高濃度單質(zhì)或多質(zhì)水溶液,并可以長(zhǎng)時(shí)間保持水溶液的濃度、單質(zhì)或多質(zhì)氣體的氣泡尺寸范圍在10nm?120nm之間,頻度最大數(shù)直徑約30nm?60nm,頻度峰直徑約20nm?70nm,頻度最小值直徑約5nm?20nm。 |
