一種多波段光學(xué)曝光系統(tǒng)、設(shè)備及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811579233.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109407473B 公開（公告）日 2021-06-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN109407473B 申請(qǐng)公布日 2021-06-11
分類號(hào) G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 陳海巍;宋志尚;李顯杰;錢聰;程珂;茆曉華;吳長江;徐敏;王偉;王軍華;劉世林;袁征;蒯多杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫影速半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張勇
地址 221000 江蘇省徐州市邳州市恒山路西側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種多波段光學(xué)曝光系統(tǒng)、設(shè)備及方法，屬于印刷線路板技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供的多波段光學(xué)曝光系統(tǒng)、設(shè)備及方法通過把不同波長光源進(jìn)行分離，不同波長的光源匹配對(duì)應(yīng)的光學(xué)器件，提高了光學(xué)器件的使用壽命，并通過將匹配不同波長的光源的曝光子系統(tǒng)設(shè)置在多波段光學(xué)曝光系統(tǒng)掃描方向上不同的位置處，使得不同的曝光子系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)在材料的不同深度處、或與不同的光引發(fā)劑發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)有一定時(shí)間間隔，使光化學(xué)反應(yīng)更為充分，讓復(fù)合光敏材料的圖形光澤度更好、清晰度更高，同時(shí)使曝光設(shè)備的產(chǎn)能整體和工作效率得到了提高。