一種多波段分別曝光的曝光裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811579100.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109613802B 公開（公告）日 2021-07-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN109613802B 申請(qǐng)公布日 2021-07-30
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I;H05K3/28（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 陳海巍;宋志尚;李顯杰;錢聰;程珂;茆曉華;吳長(zhǎng)江;徐敏;王偉;王軍華;劉世林;袁征;蒯多杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫影速半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張勇
地址 221300 江蘇省徐州市邳州經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)遼河西路66號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種多波段分別曝光的曝光裝置及方法，屬于印刷線路板技術(shù)領(lǐng)域、醫(yī)學(xué)領(lǐng)域和印染領(lǐng)域。本發(fā)明采用把不同波長(zhǎng)光源分離的思路，在一套光電曝光設(shè)備上，適配多個(gè)曝光子系統(tǒng)，每個(gè)曝光子系統(tǒng)匹配不同波長(zhǎng)的光源和對(duì)應(yīng)不同波長(zhǎng)范圍的光學(xué)器件，對(duì)待曝光基板進(jìn)行多次分序曝光。避免了采用高壓汞燈所帶來的一系列問題，提高了能量的利用率，同時(shí)也避免了無用的能量降低光學(xué)器件的壽命的問題，且每種規(guī)格的光學(xué)器件只需承受對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)的光源照射而非所有光源的照射，進(jìn)一步提高了光學(xué)器件的使用壽命和能量利用率，也降低了系統(tǒng)中光學(xué)器件的使用成本和維護(hù)成本，使曝光設(shè)備的產(chǎn)能整體得到了提高。