碳化硅單晶快速擴(kuò)徑生長系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021415249.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212451745U | 公開(公告)日 | 2021-02-02 |
申請公布號 | CN212451745U | 申請公布日 | 2021-02-02 |
分類號 | C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 張福生;楊昆;劉新輝;牛曉龍;路亞娟;尚遠(yuǎn)航 | 申請(專利權(quán))人 | 河北同光科技發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京連城創(chuàng)新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 許莉 |
地址 | 071051河北省保定市北三環(huán)6001號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開一種碳化硅單晶快速擴(kuò)徑生長系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體晶體生長技術(shù)領(lǐng)域,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中在保證結(jié)晶質(zhì)量的前提下,無法較好地實現(xiàn)碳化硅單晶的快速擴(kuò)徑的問題。本實用新型提供的碳化硅單晶快速擴(kuò)徑生長系統(tǒng),包括:坩堝桶,所述坩堝桶具有金屬或金屬化合物涂層;坩堝蓋,所述坩堝蓋置于所述坩堝桶的頂端,且所述坩堝桶具有金屬或金屬化合物涂層;導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板置于所述坩堝桶的內(nèi)部,且所述導(dǎo)流板具有金屬或金屬化合物涂層;所述導(dǎo)流板用于將所述坩堝桶的內(nèi)部分為兩個不同體積的區(qū)域,且所述導(dǎo)流板位于生長腔的部分有用于調(diào)整組份流方向的彎角。?? |
