一種大功率放電管芯片制造工藝
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110587509.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113314410A | 公開(公告)日 | 2021-08-27 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113314410A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-27 |
分類號(hào) | H01L21/329(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 崔文榮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇晟馳微電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京天盾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 丁桂紅 |
地址 | 226600江蘇省南通市海安經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)康華路55號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于芯片制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種大功率放電管芯片制造工藝,針對(duì)現(xiàn)有的放電管芯片制作方式復(fù)雜,且制作芯片漏電流高,電容值高,高溫反偏性能弱,抗浪涌能力弱的問題,現(xiàn)提出如下方案,其包括以下步驟:S1:擴(kuò)散前處理;S2:氧化;S3:?jiǎn)蜗蚬饪蹋籗4:低溫氧化;S5:離子注入;S6:氧化表面處理;S7:光刻處理;S8:測(cè)試,所述S1中準(zhǔn)備并采用N型單晶硅片,通過酸、SC3#配方清洗工序,對(duì)硅片表面進(jìn)行化學(xué)處理。本發(fā)明設(shè)計(jì)成正面TSS,背面TVS與AK系列TVS合并封裝成一種保護(hù)器件,漏電流低,電容值低,高溫反偏性能強(qiáng),抗浪涌能力強(qiáng)。 |
