還原爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022494674.5 申請日 -
公開（公告）號 CN214299304U 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN214299304U 申請公布日 2021-09-28
分類號 C01B33/035（2006.01）I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 宗冰;張寶順;任長春;蘇明錄;孟兵營 申請（專利權(quán)）人 青海省亞硅硅材料工程技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 馮潔
地址 810007青海省西寧市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)金硅路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種還原爐，包括對可見及紅外光具有反射作用的光反射層和對可見及紅外光具有透射作用的光透射層，所述光反射層包括靠近反應(yīng)物料一側(cè)的反射端面和另一側(cè)的貼合端面，所述光透射層設(shè)置在所述反射端面上。能夠避免光反射層在還原爐的間歇性運(yùn)行中與空氣中的氧氣結(jié)合而在表面生成金屬氧化膜，使得光反射層的反射性能急劇下降，無法長時(shí)間維持高的反射率的情況。