薄膜體聲波諧振器及其制作方法、濾波器
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811356081.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN109474255B | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109474255B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-02 |
| 分類(lèi)號(hào) | H03H9/17(2006.01)I;H03H3/02(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電子電路; |
| 發(fā)明人 | 李平;王偉;胡念楚;賈斌 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 開(kāi)元通信技術(shù)（廈門(mén)）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 任巖 |
| 地址 | 361000福建省廈門(mén)市海滄區(qū)海滄大道555號(hào)廈門(mén)中心大廈E棟19樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公開(kāi)提出了一種薄膜體聲波諧振器及其制作方法、濾波器；所述薄膜體聲波諧振器包括：襯底；形成于所述襯底上的壓電堆疊結(jié)構(gòu)，該壓電堆疊結(jié)構(gòu)包括底電極、壓電膜和頂電極；以及形成于所述壓電堆疊結(jié)構(gòu)上的第一焊盤(pán)和第二焊盤(pán)；其中，所述薄膜體聲波諧振器還包括介質(zhì)層，所述介質(zhì)層形成于所述壓電膜的刻蝕端面，和/或形成于所述壓電膜和底電極的刻蝕端面，和/或形成于所述壓電膜和頂電極的刻蝕端面，和/或形成于所述壓電膜、頂電極和底電極的刻蝕端面。本公開(kāi)薄膜體聲波諧振器及其制作方法、濾波器，提升器件性能，簡(jiǎn)化了制作流程，降低了制作成本。?? |
