一種碲真空蒸餾除雜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020690497.5 申請日 -
公開（公告）號 CN211998825U 公開（公告）日 2020-11-24
申請公布號 CN211998825U 申請公布日 2020-11-24
分類號 C01B19/02 分類 無機化學;
發(fā)明人 劉永清;王義;郭偉強;易錫平;蔣德忠;李正強 申請（專利權）人 湖南金馬冶金技術開發(fā)有限公司
代理機構 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 孔祥貴
地址 410000 湖南省長沙市雨花區(qū)曉光路48號綜合樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種碲真空蒸餾除雜裝置，包括：真空系統(tǒng)、電控系統(tǒng)及用于除去碲塊或碲粉中雜質的真空爐，真空爐包括加熱裝置、金屬坩堝及非金屬的蒸餾冷凝裝置，加熱裝置設置于金屬坩堝的外部，蒸餾冷凝裝置設置于金屬坩堝的內(nèi)部，蒸餾冷凝裝置包括底部的蒸餾部及設置于蒸餾部上方的冷凝部，蒸餾部與冷凝部之間設有用于回流雜質的阻流塔盤，阻流塔盤上設有第一開孔，冷凝部與真空系統(tǒng)氣連通，加熱裝置由下向上加熱溫度逐漸降低，真空系統(tǒng)及加熱裝置均與電控系統(tǒng)信號連接。除雜得到碲的純度高、單爐處理能力強，處理周期短，提升了產(chǎn)品質量，并且處理碲的蒸餾冷凝裝置為非金屬制成，防止碲對蒸餾冷凝裝置進行腐蝕，提高了裝置的壽命。