一種無銥區(qū)熔法氧化鎵晶體的生長裝置及生長方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210607364.0 申請日 -
公開(公告)號 CN114686965A 公開(公告)日 2022-07-01
申請公布號 CN114686965A 申請公布日 2022-07-01
分類號 C30B13/16(2006.01)I;C30B13/28(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 張輝;王嘉斌;夏寧;馬可可;李成;吳丹;楊德仁 申請(專利權(quán))人 浙江大學(xué)杭州國際科創(chuàng)中心
代理機(jī)構(gòu) 杭州裕陽聯(lián)合專利代理有限公司 代理人 -
地址 311200浙江省杭州市蕭山區(qū)建設(shè)三路733號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種無銥區(qū)熔法氧化鎵晶體的生長裝置及生長方法。本發(fā)明中提及的無銥區(qū)熔法屬于熔體法生長單晶的方法,不使用貴金屬作為發(fā)熱源,通過外部的發(fā)熱體發(fā)熱,熱量通過高透過率、高導(dǎo)熱性能材料做成的氣氛隔離裝置,將固體氧化鎵多晶料棒或者陶瓷棒加熱融化,然后將籽晶與熔體接觸,通過對溫度、升降、轉(zhuǎn)速等工藝條件進(jìn)行控制,使熔融區(qū)逐步的上移,進(jìn)而使遠(yuǎn)離熱場的熔體區(qū)按照籽晶晶向進(jìn)行定向結(jié)晶,最終獲得大尺寸、高質(zhì)量、確定晶向的氧化鎵單晶。