一種可控生長六角星形單層MoS2的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210165317.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114212824B | 公開(公告)日 | 2022-06-28 |
申請公布號 | CN114212824B | 申請公布日 | 2022-06-28 |
分類號 | C01G39/06(2006.01)I | 分類 | 無機化學(xué); |
發(fā)明人 | 王佩劍;藍(lán)善貴;劉影;張致翔;俞濱 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江大學(xué)杭州國際科創(chuàng)中心 |
代理機構(gòu) | 杭州五洲普華專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 310000浙江省杭州市蕭山區(qū)市心北路99號5樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于二維層狀材料制備的技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種可控生長六角星形單層MoS2的方法。通過將粒徑尺寸為40?50 nm的MoO3粉末的乙醇分散液滴在放置于石墨槽底部的碳布表面,SiO2/Si襯底倒扣于石墨槽頂部,利用常壓化學(xué)氣相沉積技術(shù),可大規(guī)模地合成六角星形單層MoS2。由于MoO3粉末粒徑尺寸較?。?0?50 nm),可提供充足的形核位點,使用本發(fā)明提供的方法可以大規(guī)模地可控合成六角星形單層MoS2,在制作大規(guī)?;诙S層狀材料的憶阻器件領(lǐng)域有應(yīng)用前景。 |
