一種超薄四面體非晶碳膜的制備工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210352227.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114686807A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114686807A 申請公布日 2022-07-01
分類號 C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊挺;吳春春;張云飛 申請（專利權）人 浙江大學杭州國際科創(chuàng)中心
代理機構 合肥匯融專利代理有限公司 代理人 -
地址 311200浙江省杭州市蕭山區(qū)市心北路99號5樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種超薄四面體非晶碳膜的制備工藝，涉及非晶碳膜制備技術領域。所述超薄四面體非晶碳膜的制備工藝主要包括基體材料處理、基體變壓蝕刻、聯(lián)合變換弧流、電壓、溫度沉積薄膜和變溫激冷處理等步驟。本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術的不足，通過在蝕刻和沉積過程中對壓強、溫度、偏壓的調整，有效提升最終薄膜的沉積速度，并且進一步提升薄膜的硬度降低其應力，同時保證各個厚度的薄膜性能的穩(wěn)定性，并且通過變溫激冷有效降低應力，綜合提升非晶碳膜的性能。