一種三維納米多孔硅的制備裝置及制備系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201611159904.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN106744672A | 公開(公告)日 | 2017-05-31 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN106744672A | 申請(qǐng)公布日 | 2017-05-31 |
分類號(hào) | B82B3/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 分類 | 超微技術(shù)〔7〕; |
發(fā)明人 | 洪捐;耿其東;周兆鋒;杜建周;黃因慧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇海州經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)管理委員會(huì) |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 鹽城工學(xué)院;江蘇海州經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)管理委員會(huì);南京卓勝自動(dòng)化設(shè)備有限公司 |
地址 | 224000 江蘇省鹽城市世紀(jì)大道1166號(hào)研創(chuàng)大廈 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及納米多孔硅材料的制備領(lǐng)域,提供了一種三維納米多孔硅的制備裝置,包括底座、激波發(fā)生器、激波電源、工作液槽、化學(xué)刻蝕反應(yīng)容器以及溫度計(jì),激波發(fā)生器設(shè)置于底座的頂部,工作液槽設(shè)置于激波發(fā)生器的頂部,化學(xué)刻蝕反應(yīng)容器通過夾持裝置設(shè)置于工作液槽內(nèi),溫度計(jì)設(shè)置于化學(xué)刻蝕反應(yīng)容器內(nèi),工作液槽內(nèi)設(shè)置有加熱元件,激波電源設(shè)置于底座的側(cè)壁,激波發(fā)生器和加熱元件均與激波電源電路連接。該裝置操作簡(jiǎn)單,且其制得的三維納米多孔硅產(chǎn)率、高孔洞分布均勻、孔徑尺寸均勻。本發(fā)明還提供了一種三維納米多孔硅的制備系統(tǒng),其包括上述的三維納米多孔硅的制備裝置,該系統(tǒng)制得的三維納米多孔硅產(chǎn)率高品質(zhì)好。 |
