一種大角度入射的多輸出激光衰減裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821495735.6 申請日 -
公開（公告）號 CN209117974U 公開（公告）日 2019-07-16
申請公布號 CN209117974U 申請公布日 2019-07-16
分類號 G02B27/00 分類 光學(xué);
發(fā)明人 趙秀冕 申請（專利權(quán)）人 北京國科欣翼科技有限公司
代理機構(gòu) 北京紐樂康知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 北京國科欣翼科技有限公司
地址 100000 北京市海淀區(qū)中關(guān)村南大街5號1區(qū)689樓3層302室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種大角度入射的多輸出激光衰減裝置，包括沿激光入射方向依次設(shè)置的前面板、衰減單元和后面板，所述的前面板上設(shè)有激光入射孔，所述的后面板上設(shè)有若干個激光出射孔，所述的衰減單元包括前透射窗和后透射窗，所述的前透射窗和后透射窗之間設(shè)有圓柱空腔，所述的圓柱空腔內(nèi)填充有散射材料，所述每一個激光出射孔處的后面板上均連接有出射孔通道，所述的出射孔通道上設(shè)有滑槽，所述的滑槽內(nèi)滑動連接有激光出射孔蓋。本實用新型改善了衰減器的入射角度特性，且可以實現(xiàn)多個出口輸出，前面板采用漫反射處理，提高了表面反射率，同時防止了反射的高能激光損壞光路上的其它元器件。