樣品倉、光譜檢測系統(tǒng)、樣品厚度測量方法及裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910945323.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110542386A | 公開(公告)日 | 2019-12-06 |
申請公布號 | CN110542386A | 申請公布日 | 2019-12-06 |
分類號 | G01B11/06 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 黃培雄;張前成 | 申請(專利權(quán))人 | 雄安華訊方舟科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 深圳市太赫茲科技創(chuàng)新研究院有限公司;雄安華訊方舟科技有限公司 |
地址 | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)西鄉(xiāng)街道寶田一路臣田工業(yè)區(qū)第37棟二樓東 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請適用于計算機技術(shù)領(lǐng)域,提出一種樣品倉、光譜檢測系統(tǒng)、樣品厚度測量方法及裝置,樣品倉包括相對的第一側(cè)壁和第二側(cè)壁;第一側(cè)壁反射太赫茲波形成第一反射信號,透射太赫茲波形成第一透射信號;第二側(cè)壁全反射第二透射信號,形成第二反射信號;待測樣品的第一表面和第二表面分別反射第一透射信號形成第三反射信號和第四反射信號。由于太赫茲波在空氣中的傳播速度、第一側(cè)壁和第二側(cè)壁之間的距離均已知,因此通過樣品倉測量出接收到第一反射信號和第三反射信號的時間差,以及接收到第二反射信號和第四反射信號的時間差,可以計算待測樣品的厚度,能夠?qū)崿F(xiàn)對未知折射率樣品的厚度進行測量。 |
