高精度拋光液的生產(chǎn)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200610086233.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN100506936C 公開（公告）日 2009-07-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN100506936C 申請(qǐng)公布日 2009-07-01
分類號(hào) C09G1/02(2006.01)I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 孫韜 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇吉瑞卡微電子納米材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 揚(yáng)州市錦江專利事務(wù)所 代理人 孫韜;江蘇中晶光電科技有限公司
地址 226600江蘇省海安縣開發(fā)區(qū)東湖路8號(hào)江蘇吉瑞卡微電子納米材料有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 高精度拋光液的生產(chǎn)方法，涉及用于加工如玻璃制品的拋光液的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。先將氧化鈰顆粒分散在水中，制成氧化鈰懸浮液；再將硅酸鹽加入懸浮液中，制成氧化鈰、硅酸鹽的混合懸浮液；調(diào)整氧化鈰、硅酸鹽的混合懸浮液的pH為8～12；然后，將氧化鈰、硅酸鹽的混合懸浮液升溫至20～90℃，恒溫一定時(shí)間后，再降溫至10～25℃，調(diào)節(jié)氧化鈰、硅酸鹽的混合懸浮液的pH值至4～11。用于如氧化硅，硅酸鹽，單晶硅等含硅化合物以及其它各種氧化物或半導(dǎo)體或?qū)w表面的拋光、玻璃制品表面拋光、芯片生產(chǎn)的絕緣氧化層的拋光、單晶硅的拋光，都具有平化拋光效率高、不損傷拋光機(jī)的特性。