一種無掩膜光刻設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022844287.X 申請日 -
公開（公告）號 CN213750654U 公開（公告）日 2021-07-20
申請公布號 CN213750654U 申請公布日 2021-07-20
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 吳明倉 申請（專利權）人 廣東思沃激光科技有限公司
代理機構 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 李金偉
地址 523000廣東省東莞市松山湖高新技術產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)研發(fā)一路1號A棟2樓A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請適用于無掩膜光刻技術領域，提供了一種無掩膜光刻設備，包括用于產(chǎn)生面陣光的照明裝置、設置于照明裝置發(fā)出的面陣光的光路上的數(shù)字微鏡器件、用于承載待加工的基板的載物臺組件、設置于載物臺組件和數(shù)字微鏡器件之間的投影物鏡，以及電氣連接載物臺組件和數(shù)字微鏡器件的控制單元；數(shù)字微鏡器件具有多個縱橫排列的微反射鏡單元，微反射鏡單元反射的面陣光經(jīng)過投影物鏡后在基板上形成刻蝕光斑；各刻蝕光斑沿第一方向和與第一方向垂直的方向縱橫排列，且刻蝕光斑能夠沿第二方向掃描照射基板，第一方向和第二方向之間的夾角θ為銳角?？刂茊卧刂莆⒎瓷溏R單元偏轉，使得基板上的印制電路具有連續(xù)可變性。